烏魯木齊超精密氣浮轉(zhuǎn)臺廠家
發(fā)布時間:2022-11-16 01:35:18
烏魯木齊超精密氣浮轉(zhuǎn)臺廠家
該卡盤精度高、性能穩(wěn)定可靠、操作方便,在航空發(fā)動機制造、裝調(diào)檢測和維修領(lǐng)域的應用中得到普遍認可。該液壓卡盤傳遞力可在<8MPa內(nèi)進行調(diào)整,對工件的重復裝卡精度可達2~3μm;卡口尺寸按照用戶要求設(shè)計制造。轉(zhuǎn)接盤航空發(fā)動機裝配專用轉(zhuǎn)接盤裝置,是根據(jù)發(fā)動機轉(zhuǎn)子部件的結(jié)構(gòu)尺寸和裝配工藝而專門設(shè)計制造的,使用中將其安裝在超精密氣浮轉(zhuǎn)臺上,并將相匹配的裝配件通過止口固定其上,即可進行裝配、檢測(如圖所示)。

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基本原理:在傳統(tǒng)牛頓流體的雷諾方程基礎(chǔ)上,將惠普爾理論與壓力對數(shù)分布假設(shè)相結(jié)合,對傳統(tǒng)氣體潤滑理論進行修正和完善。建立基于動靜壓復合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(CTGB)的歸一化解析模型,在以剛度為目標函數(shù)的前提下,對結(jié)構(gòu)參數(shù)進行全局優(yōu)化,從而得到基于動靜壓復合的超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準的結(jié)構(gòu)參數(shù)。科學意義及應用價值:對超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準中動靜壓之間的耦合規(guī)律進行建模。解析表述了動靜壓之間的壓力耦合、結(jié)構(gòu)耦合以及壓力與結(jié)構(gòu)之間的交叉耦合。該技術(shù)大幅度提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準的剛度、承載能力和抗擾動能力,提高了氣浮回轉(zhuǎn)基準的綜合性能。實驗表明:與傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(STGB)相比,承載能力提高4倍以上,剛度提高6倍以上,流量略有增大,性能曲線對比見Fig.1-3。

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在保證焦斑質(zhì)量的同時,可獲得大的曝光區(qū)域;引入光強宏微雙重調(diào)制裝置,提高了曝光光強的調(diào)制分辨力,從而解決控制輪廓精度的問題;通過空間光調(diào)制器依據(jù)像素部對寫入激光分束,解決了多光路并行同步直寫光束的控制問題。該技術(shù)特別適用于微陣列和微結(jié)構(gòu)光學器件制作,具有大范圍、高精度激光寫入的優(yōu)點。研究目的:研究一種基于多個子孔徑干涉拼接的全域非球面超精密測量技術(shù),解決干涉儀測量范圍受限和分辨率受限問題,實現(xiàn)局部變化較大的凸凹面深度非球面面型的高精度測量。

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陸昊省長和楊雄市長等領(lǐng)導考察了一批大型超精密儀器產(chǎn)品的中試與生產(chǎn)情況、市場化前景和與上海有關(guān)單位的合作情況。仔細觀看了一批產(chǎn)品樣機的演示,如國家重大科學儀器設(shè)備開發(fā)專項成果 “工業(yè)用共焦顯微鏡”、“隔振地基”“雙頻激光干涉儀”“生物醫(yī)學用共焦顯微鏡”、“大口徑非球面微結(jié)構(gòu)測量用共焦顯微鏡”產(chǎn)品;大型高端發(fā)動機裝配測試系列產(chǎn)品 “兩截面大型超精密裝配/測量儀”、“四截面大型超精密裝配/測量儀”、“五截面大型超精密裝配/測量儀”和“超大型同軸度測量標準裝置”;“4米直徑超精密一體化氣浮研拋/測量機”和“超大型精密儀器及系統(tǒng)氣浮隔微振裝置”等。

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實施國家新一輪老工業(yè)基地調(diào)整改造,把調(diào)整所有制結(jié)構(gòu)作為重點支持黑龍江改革;支持黑龍江資源型城市加快發(fā)展替代產(chǎn)業(yè)等。哈爾濱電氣集團、中國重型機械集團公司等單位有關(guān)負責人,分別就各企業(yè)發(fā)展情況以及需要國家層面幫助協(xié)調(diào)解決的問題進行了發(fā)言。在我省期間,調(diào)研組一行先后到哈爾濱超精密工程技術(shù)公司、哈電集團、哈爾濱飛機工業(yè)集團有限責任公司、哈爾濱東安動力公司、中船重工703所中小型燃機產(chǎn)業(yè)園、黑龍江省工業(yè)技術(shù)研究院、科技創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)共享服務(wù)平臺等地進行了實地考察調(diào)研。

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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準直擴束后,平行入射到DMD上,被其調(diào)制編碼、分束成獨立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后,被微光學陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺上,從而實現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時,基底平臺作光柵或回轉(zhuǎn)掃描,實現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學器件的曝光制作??茖W意義及應用價值:利用微光學陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡,實現(xiàn)多光路并行同步寫入,有效提高了寫入效率;同時由于微光學透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比,像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑,可極大地提高寫入分辨力。