煙臺(tái)航空發(fā)動(dòng)機(jī)測(cè)試儀公司
發(fā)布時(shí)間：2022-10-13 01:35:46
煙臺(tái)航空發(fā)動(dòng)機(jī)測(cè)試儀公司
科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：建立起一種反映傾斜、位移、離焦和振動(dòng)干擾等影響因素和作用規(guī)律的子孔徑干涉拼接測(cè)量模型，依據(jù)該測(cè)量模型，可建立起一種對(duì)上述影響因素有較強(qiáng)抑制能力的測(cè)量?jī)x器，進(jìn)而解決凸凹深度非球面測(cè)量問題。研究目的：研究一種超精密、超高速、大載荷、高剛度的氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)，解決傳統(tǒng)氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)承載能力小、剛度低、抗擾動(dòng)能力差等問題，以期進(jìn)一步提高氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的回轉(zhuǎn)精度，提高抗擾動(dòng)能力。
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圓柱度、直線度、垂直度、同軸度和同心度等幾何參量進(jìn)行測(cè)量，并能進(jìn)行相關(guān)分析。可廣泛用于航空航天、船舶、國(guó)防、汽車、軸承等各類精密裝備***造領(lǐng)域。基準(zhǔn)型圓柱度測(cè)量?jī)x可用于計(jì)量部門，開展圓柱度量值的傳遞與溯源工作儀器特色：超精密氣浮回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)主軸精度是圓柱度儀回轉(zhuǎn)基準(zhǔn)的重要指標(biāo)。經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計(jì)的圓柱度儀的空氣靜壓軸系采用本所專利技術(shù)，經(jīng)特殊加工工藝研制，因此保證了儀器主軸具有超精密級(jí)的軸向與徑向回轉(zhuǎn)精度(0.015~0.05μm)、角回轉(zhuǎn)精度(0.02~0.1″)和高承載與高剛度兼顧性能，保障了儀器具有高可靠性和長(zhǎng)久的使用壽命。
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為做好國(guó)家首批國(guó)家重大科學(xué)儀器開發(fā)專項(xiàng)項(xiàng)目驗(yàn)收工作，6月26日至27日，科技部科研條件與財(cái)務(wù)司副司長(zhǎng)吳學(xué)梯、工業(yè)和信息化部科技司副司長(zhǎng)李力先后來我公司考察，了解我公司的國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)項(xiàng)目。工業(yè)和信息化部、省工信委相關(guān)領(lǐng)導(dǎo)，我公司董事長(zhǎng)等參加現(xiàn)場(chǎng)考察。吳學(xué)梯在考察時(shí)強(qiáng)調(diào)了國(guó)家實(shí)施創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略的重要意義和迫切性，詳細(xì)了解了譚久彬教授所承擔(dān)的“超高分辨率反射式立體層析共焦顯微鏡研制”項(xiàng)目在核心技術(shù)突破、工程樣機(jī)和產(chǎn)品樣機(jī)研制、測(cè)試驗(yàn)證、第三方異地測(cè)試的準(zhǔn)備、產(chǎn)業(yè)前景和產(chǎn)業(yè)化途徑、知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)、標(biāo)準(zhǔn)制定以及經(jīng)費(fèi)使用等方面的進(jìn)展情況。
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HUE-T231大型高速回轉(zhuǎn)裝備超精密裝配測(cè)量?jī)x(單立柱雙通道)由哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開發(fā)。主要用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)、艦船發(fā)動(dòng)機(jī)和電站燃機(jī)機(jī)匣、轉(zhuǎn)子、葉盤組件，盤、軸類零件和回轉(zhuǎn)體零部件的跳動(dòng)、極值位置、同心度、圓度、平面度、垂直度和同軸度的檢測(cè)，并對(duì)檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄、存儲(chǔ)、并建立數(shù)據(jù)庫(kù)，通過計(jì)算機(jī)對(duì)誤差數(shù)據(jù)進(jìn)行評(píng)價(jià)和分析，***終得出正確的測(cè)量結(jié)果并出具測(cè)試報(bào)告。
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由我公司承擔(dān)的上海微電子裝備有限公司(SMEE)的光刻機(jī)計(jì)量框架和基礎(chǔ)框架制造任務(wù)于2017年2月13日通過預(yù)驗(yàn)收與交付，這標(biāo)志著我公司對(duì)于精密復(fù)雜構(gòu)件的制造能力提升至一個(gè)新的臺(tái)階。光刻機(jī)被稱為“智能制造業(yè)中的珠穆朗瑪峰”，其中的計(jì)量框架是整個(gè)光刻機(jī)的工作基準(zhǔn)平臺(tái)，尺寸龐大(2.2m′1.9m)，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，僅定位銷孔一百二十多個(gè)；螺紋孔四百多個(gè)；基礎(chǔ)框架是整個(gè)光刻機(jī)的基本支持體，尺寸達(dá)2.75m′1.86m′1.37m，其螺紋孔有三百多個(gè)。計(jì)量框架與基礎(chǔ)框架中對(duì)任何加工部位的位置、形狀、尺寸、表面形貌等要求相當(dāng)高，正常的制造周期為6個(gè)月。