湖南超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)定制
發(fā)布時(shí)間：2023-02-01 01:34:15
湖南超精密氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)定制
用途HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)主要用于大型和超大型精密機(jī)械、光學(xué)精密零部件的幾何參量或部件及整機(jī)運(yùn)動(dòng)參量的計(jì)量檢測、以及大型精密裝備分系統(tǒng)和整機(jī)裝配測試等。規(guī)格與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)臺(tái)面直徑范圍為①700mm～①3000，mm，設(shè)計(jì)有T型槽或固定子L的臺(tái)面形式，特殊需要可單獨(dú)定做；臺(tái)體承重從800kg到20000kg，（技術(shù)指標(biāo)見附表）。結(jié)構(gòu)與工作特性HUE-ZT1031系列大型精密／超精密單軸氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)配置精密氣浮軸系，兼有高回轉(zhuǎn)精度、高剛度和高承載能力等特點(diǎn)。轉(zhuǎn)臺(tái)高精度旋轉(zhuǎn)時(shí)無噪聲、無振動(dòng)、運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)。
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儀器特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)：我公司生產(chǎn)的系列圓柱度測量儀完全擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，具有測量精度高、重復(fù)性好、儀器功能模塊化、中文操作界面等優(yōu)點(diǎn)，能夠?qū)堋⒋笮汀⒅匦图疤厥庑螤罨剞D(zhuǎn)體類零件的圓度、圓柱度、直線度、垂直度、同軸度和同心度等幾何參量進(jìn)行測量，并能進(jìn)行相關(guān)分析。可廣泛用于航空航天、船舶、國防、汽車、軸承等各類精密裝備制造領(lǐng)域。基/標(biāo)準(zhǔn)型圓柱度測量儀可用于計(jì)量部門，開展圓柱度量值的傳遞與溯源工作，基準(zhǔn)型圓柱度測量儀(圖1)的主要技術(shù)指標(biāo)詳見技術(shù)參數(shù)。
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其原理如圖所示。寫入激光經(jīng)過調(diào)制穩(wěn)光、準(zhǔn)直擴(kuò)束后，平行入射到DMD上，被其調(diào)制編碼、分束成獨(dú)立的光陣列;再經(jīng)4?空間濾波系統(tǒng)濾波后，被微光學(xué)陣列中相匹配的子鏡聚焦到涂有光刻膠的基底平臺(tái)上，從而實(shí)現(xiàn)寫入曝光;在寫入光被調(diào)制的同時(shí)，基底平臺(tái)作光柵或回轉(zhuǎn)掃描，實(shí)現(xiàn)微陣列和微結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的曝光制作。科學(xué)意義及應(yīng)用價(jià)值：利用微光學(xué)陣列替換傳統(tǒng)的直寫物鏡，實(shí)現(xiàn)多光路并行同步寫入，有效提高了寫入效率;同時(shí)由于微光學(xué)透鏡與傳統(tǒng)物鏡相比，像差小、制作容易、易獲得大數(shù)值孔徑，可極大地提高寫入分辨力。
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核心技術(shù)指標(biāo)通過國家量儀產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心檢測主要核心技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國際同類產(chǎn)品領(lǐng)先水平我公司該產(chǎn)品目前已有18種適應(yīng)不同應(yīng)用場合的的型號(hào)產(chǎn)品; 在航天、國防和高端超精密裝備制造領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可解決我國高端超精密裝備研制、生產(chǎn)和使用中的隔微振技術(shù)難題。隨著我國的裝備制造業(yè)向中高端發(fā)展，HUE-G2631將在我國發(fā)展該類高端超精密裝備發(fā)揮重大作用。航天發(fā)動(dòng)機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)陣列式氣膜微孔、燃料微噴嘴氣浮設(shè)備陣列式微孔氣足、陣列式節(jié)流微孔光東引導(dǎo)微口徑約束、針孔光闌m科學(xué)實(shí)驗(yàn)研究校準(zhǔn)溯源、工藝改進(jìn)
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HUE-X931是哈爾濱工業(yè)大學(xué)、哈爾濱超精密裝備工程技術(shù)中心有限公司聯(lián)合開發(fā)的新一代高空間分辨率光學(xué)共焦顯微鏡。 產(chǎn)品系大型高端科學(xué)儀器，綜合了國內(nèi)外優(yōu)勢(shì)技術(shù)方案，技術(shù)密集度極高，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)各類樣品表面微結(jié)構(gòu)的高分辨率三維測量。使用環(huán)境，溫度要求：20℃±1℃;濕度要求：小于60%RH;隔振要求：儀器應(yīng)放在隔振基礎(chǔ)上，周圍無劇烈振動(dòng)和沖擊;電磁場要求：使用現(xiàn)場周圍無強(qiáng)電磁干擾。
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基本原理：干涉儀對(duì)深度非球面元件進(jìn)行多次局部檢測，兩次測量區(qū)域之間有一定的重疊。將每兩次檢測重疊部分的相位值經(jīng)過擬合統(tǒng)一到一個(gè)曲面上，這樣可不斷地將測量范圍擴(kuò)大，從而獲得整個(gè)待測元件表面輪廓。拼接的理論依據(jù)是在重疊區(qū)域內(nèi)，兩次測量得到的波前相位值是一致的，即兩次測量相位數(shù)據(jù)位于同一個(gè)曲面上。而在實(shí)際測量過程中，則需要傾斜、位移、離焦和振動(dòng)干擾等誤差影響，并依據(jù)一種高精度的多子孔徑干涉拼接測量模型，實(shí)現(xiàn)全域凸凹深度非球面形狀的測量與評(píng)定。